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我國電子氣體發(fā)展的三大難點！
電子氣體是高科技產(chǎn)業(yè)重要的“源”資料，是集成電路制作過程中必不可少的要害支撐資料。據(jù)專業(yè)人士泄漏，中國半導(dǎo)體行業(yè)要實現(xiàn)從跟隨走向引領(lǐng)的跨越，電子氣體的打破一定會是最重要的一環(huán)。 半導(dǎo)體制作過程中刻蝕、清洗、外延生長、離子注入、摻雜、氣相堆積、分散等要運用大量的電子氣體，且電子氣體的純度對芯片質(zhì)量影響很大。跟著集成電路制程節(jié)點不斷縮?。ㄒ呀?jīng)走到10/7納米），對電子氣體的顆粒度和雜質(zhì)含量的要求也越來越高。因此，集成電路技能快速發(fā)展，對電子氣體的種類、數(shù)量、質(zhì)量、安全性以及安穩(wěn)更多 +
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高純氣體如何成為零點氣體
高純氣體用作零點氣的制作完全類似于氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的制作，但操作過程可以簡化。通常使用的稀釋氣體中的某種或某類雜質(zhì)含量低于分析方法所采用測量儀器的最小檢出量，則此種稀釋氣就可作為“零點”氣使用。 零點氣體是用于在給定的含量范圍內(nèi)，用給定的分析方法去校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)工作曲線的零點。當(dāng)其作為被測樣品進(jìn)入檢測儀表后，在儀器選下的測量范圍內(nèi)，僅呈現(xiàn)儀表零點的響應(yīng)值，而不會產(chǎn)生偏離預(yù)置零點以外的響應(yīng)信號。對不同類型的檢測方法和不同燈頭型的檢測儀器，最低檢測限會對零點氣體提出不同的更多 +
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電子工業(yè)中如何正確選用高純氣體
隨著科學(xué)技術(shù)向高、精、尖發(fā)展，對各種原材料“純度”的要求開始越來越高。但是，高純氣體所能提供的數(shù)量通?？偸禽^少的，同時，價格昂貴。因此，如何正確地恰如其分地提出對原料氣的純度要求，如何選用高純氣就成為一個值得討論的問題。 通常，人們常用百分濃度來轟示氣體的純度，即所謂用幾個“9”字的表示法。例如，某種氣體濃度為99．9％，表示含有0.1% 的雜質(zhì)(即雜質(zhì)含量為1000ppm)。按通常的概念，顯然，濃度為99.995％的氣體比99．99更多 +
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高純氖氣生產(chǎn)制取方法
高純氖氣是指其純度不低于99.999%，即雜質(zhì)含量小于10x10-6（體積分?jǐn)?shù)）的高純氖氣。工業(yè)上提供的出氣體其雜質(zhì)總量一般都小于100x10-6（體積分?jǐn)?shù)）。因此高純氖氣生產(chǎn)，必須將工業(yè)純氖氣通過進(jìn)一步純化，使雜質(zhì)脫除到10x10-6（體積分?jǐn)?shù)）以下。更多 +
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高純氖氣如何制取
高純氖氣是指其純度不低于99.999%，即雜質(zhì)含量小于10x10-6（體積分?jǐn)?shù)）的高純氖氣。工業(yè)上提供的出氣體其雜質(zhì)總量一般都小于100x10-6（體積分?jǐn)?shù)）。因此為得到高純氖氣，必須將工業(yè)純氖氣通過進(jìn)一步純化，使雜質(zhì)脫除到10x10-6（體積分?jǐn)?shù)）以下。 工業(yè)純氖主要雜質(zhì)除氦以外，一般都含有微量氮、氧、氫、水分、一氧化碳、二氧化碳和烴類等雜質(zhì)，它們可用以下方法脫除。 1：脫除氮 脫除氮時，有時伴隨著氧的脫除，主要用金屬吸氣劑經(jīng)行吸收。常用的金屬吸氣劑有鈣、鈦、鈾和鋯-鋁-16等。 用金屬鈣做吸更多 +
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氣體行業(yè)把瓶裝氣體產(chǎn)品都分為哪些種類呢？
特種氣體分為：高(超高)純氣體、標(biāo)準(zhǔn)氣體和具有特定組成的混合氣體。工業(yè)上，把常溫常壓下（1atm 15℃），呈現(xiàn)出氣態(tài)的物質(zhì)稱為氣體產(chǎn)品。一般工業(yè)性氣體和特種氣體產(chǎn)品。一般工業(yè)性氣體：一般工業(yè)性氣體產(chǎn)銷量巨大，對氣體的純度要求不高；特種氣體有別于一般工業(yè)氣體，它是具有特殊用途，并在特定領(lǐng)域中應(yīng)用的，對純度、雜質(zhì)含量、組成、物化性能等有特殊要求的一類氣體產(chǎn)品。更多 +
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