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: 氬氣無(wú)毒，對(duì)人有沒有沒害？

高純氬氣、超純氬氣是現(xiàn)在工業(yè)上應(yīng)用很廣的稀有氣體。它的性質(zhì)非常不活潑，既不能燃燒，也不助燃。在飛機(jī)制造、造船、原子能工業(yè)和機(jī)械工業(yè)部門，對(duì)特別金屬，例如鋁、鎂、銅及其合金和不銹鋼在焊接時(shí)，往往用氬作為焊接維護(hù)氣，防止焊接件被空氣氧化或氮化。在金屬冶煉方面，氧、氬吹煉是出產(chǎn)優(yōu)質(zhì)鋼的重要措施，每煉1t鋼的氬氣消耗量為1～3m3。此外，對(duì)鈦、鋯、鍺等特別金屬的冶煉，以及電子工業(yè)中也需求用氬作維護(hù)氣。在空氣中含有的0.932%的氬，沸點(diǎn)在氧、氮之間，在空分設(shè)備上塔的中部含量最高，叫氬餾分。在別離氧、氮的
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: 四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體

蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級(jí)C4F6成為集成電路IC芯片等制造時(shí)必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡(jiǎn)直為0，而且能完結(jié)納米級(jí)溝槽的加工，成為電子工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團(tuán)隊(duì)提出自主開發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣
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: 電子氣體國(guó)產(chǎn)化，為何難以實(shí)現(xiàn)？

廣義的“電子氣體”指電子工業(yè)生產(chǎn)中使用的氣體，是重要原材料之一；狹義的“電子氣體”特指半導(dǎo)體行業(yè)用的氣體。電子氣體在電子產(chǎn)品制程工藝中廣泛應(yīng)用于薄膜、蝕刻、摻雜等工藝，被稱為半導(dǎo)體、平面顯示等材料的“糧食”和“源”。在硅片制造廠，一個(gè)硅片需要兩到三個(gè)月的工藝流程，完成450道或更多的工藝步驟才能得到有各種電路圖案的芯片。這個(gè)過程包括外延、成膜、摻雜、蝕刻、清洗、封裝等諸多工序，需要的高純電子化學(xué)氣體及
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: 同位素示蹤法在各行業(yè)的應(yīng)用

工業(yè)中的應(yīng)用在工業(yè)活動(dòng)中，示蹤原子為使用多種高性能的檢測(cè)方法和生產(chǎn)過程自動(dòng)控制方法提供了可能性，克服了傳統(tǒng)檢測(cè)方法難以完成甚至無(wú)法完成的難題。如石油工業(yè)中采用放射性核素示蹤微球等方法測(cè)繪注水井吸水剖面，為評(píng)價(jià)地層，調(diào)整注水量的分配，實(shí)現(xiàn)石油的增產(chǎn)和穩(wěn)定做出了貢獻(xiàn)。在機(jī)械工業(yè)中可用氪（85Kr）化技術(shù)進(jìn)行機(jī)械磨損研究，測(cè)量一些其他方法不能完成的運(yùn)動(dòng)部件的最高工作溫度和溫度分布。此外，這一靈敏度很高的85Kr檢漏方法也在機(jī)械工業(yè)產(chǎn)品、機(jī)械零部件和金屬真空系統(tǒng)的檢漏，以及電子工業(yè)半導(dǎo)體
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: 四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用

四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控
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: 液氮在電子工業(yè)中的應(yīng)用

液氮是低溫-196℃的液體，是由占用空氣成分百分之七十多的氮?dú)獾脕?lái)的。惰性、無(wú)色、無(wú)毒，易揮發(fā)，使用范圍非常廣。液氮低溫易揮發(fā)，所以一般儲(chǔ)存在專用容器—液氮罐中。 1、電子元件制造與檢測(cè) 液氮是一種更快和更有效的屏蔽和測(cè)試電子元器、電路板的方法。 2、低溫球磨技術(shù) 低溫行星式球磨機(jī)是將液氮?dú)怏w源源不斷地輸入裝有保溫罩的行星式球磨機(jī)中，這些冷氣將高速旋轉(zhuǎn)的球磨罐產(chǎn)生的熱量及時(shí)
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: 電子工業(yè)中如何正確選用高純氣體

隨著科學(xué)技術(shù)向高、精、尖發(fā)展，對(duì)各種原材料“純度”的要求開始越來(lái)越高。但是，高純氣體所能提供的數(shù)量通常總是較少的，同時(shí)，價(jià)格昂貴。因此，如何正確地恰如其分地提出對(duì)原料氣的純度要求，如何選用高純氣就成為一個(gè)值得討論的問題。通常，人們常用百分濃度來(lái)轟示氣體的純度，即所謂用幾個(gè)“9”字的表示法。例如，某種氣體濃度為99．9％，表示含有0.1% 的雜質(zhì)(即雜質(zhì)含量為1000ppm)。按通常的概念，顯然，濃度為99.995％的氣體比99．99
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: 氣相色譜法測(cè)定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法

四氟化碳這種含氟有機(jī)化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運(yùn)用多年，也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時(shí)在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗(yàn)劑有一定的應(yīng)用空間。四氟化碳的廣泛應(yīng)用，其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測(cè)四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）
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: 如何去除四氟化碳？降低溫室效應(yīng)

四氟化碳分子式CF4，常溫下為無(wú)色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對(duì)熱非常穩(wěn)定，化學(xué)性質(zhì)比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結(jié)構(gòu)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應(yīng)的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長(zhǎng)時(shí)間停留在大氣層中，是一種非常強(qiáng)大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1），所以去除生產(chǎn)過程中不必要的四氟化碳?xì)怏w非常重要。不同添加氣體對(duì)微波電漿
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: 氘氣的制備技術(shù)

隨著全球經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展，社會(huì)對(duì)能源的需求量日益增大，各國(guó)在經(jīng)濟(jì)發(fā)展中都面臨著能源枯竭問題。這使得氘氣研究成為了備受關(guān)注的焦點(diǎn)，氘氣被稱為“未來(lái)的天然燃料”。氘氣可應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池等電子工業(yè)的燒結(jié)或退火工藝中以及核子融合反應(yīng)，化學(xué)、生物化學(xué)等領(lǐng)域。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，氘氣應(yīng)用越來(lái)越廣泛，氘氣制備技術(shù)也有了研究的價(jià)值。氘氣是美國(guó)科學(xué)家哈羅德?克萊頓?尤里在一九三一年，在大量液體氫蒸發(fā)后利用光譜檢測(cè)方法發(fā)現(xiàn)的。氘氣的發(fā)現(xiàn)轟動(dòng)了整個(gè)科學(xué)界，尤里也因此獲得了諾貝爾化學(xué)獎(jiǎng)。氘氣最初主要應(yīng)用于軍事研究，如核能工業(yè)、核武器等，隨著時(shí)代發(fā)展，氘氣應(yīng)用逐步擴(kuò)展到民用工業(yè)中，如光纖材料，特殊燈源等，研究氘氣制備技術(shù)也具有重要意義。
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