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如何去除四氟化碳？降低溫室效應
四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對熱非常穩(wěn)定，化學性質比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結構。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長時間停留在大氣層中，是一種非常強大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1），所以去除生產(chǎn)過程中不必要的四氟化碳氣體非常重要。 不同添加氣體對微波電漿更多 +
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高純六氟化硫氣體的應用
高純六氟化硫氣體是我國科研、生產(chǎn)等許多部門急需的特種氣休,在半導體工業(yè)巾用于等離子蝕刻工藝,在光導纖維制造中用作隔離層摻雜劑。高純六氟化硫氣體還是重要的激光材料,在其它領域也有重要用途。更多 +
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四氟化碳氣體處理快閃記憶體的應用你知道么
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。今天紐瑞德特氣小編月月為大家?guī)硎褂盟姆茧姖{處理三氧化鉬之電荷捕捉層在快閃記憶體的應用介紹。更多 +
