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工業(yè)氧氣和醫(yī)用氧氣有什么區(qū)別
氧氣分為工業(yè)氧氣和醫(yī)用氧氣。差異： 1.氧氣的濃度和質(zhì)量不同。 工業(yè)氧氣中含有許多雜質(zhì)，工廠檢驗(yàn)中沒有對其進(jìn)行要求。特殊氣體網(wǎng)絡(luò)和氧氣濃度99%以上合格。因此，吸入影響人們的健康。醫(yī)用氧氣純度高，氧含量濃度不低于99.5%，無色無味。醫(yī)用氧氣必須檢測雜質(zhì)，一旦雜質(zhì)超標(biāo)，就不能輸送。 2.適用范圍不同。 醫(yī)用氧氣是臨床醫(yī)用氧氣，俗稱干氧，主要用于預(yù)防和治療缺氧患者；工業(yè)氧氣實(shí)際上是用于工業(yè)生產(chǎn)和產(chǎn)品加工的氧氣。 3.濕度控制不同。 醫(yī)用氧氣需要很低的含水量，因?yàn)樗畷?dǎo)致鐵氧化，當(dāng)吸入人體時會造更多 +
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過度吸氧的負(fù)作用有哪些
早在19世紀(jì)中葉，英國科學(xué)家保羅·伯特就發(fā)現(xiàn)動物在呼吸純氧時會中毒。如果一個人處于大于0.05MPa（半大氣壓）的純氧環(huán)境中，它對所有細(xì)胞都有毒。如果吸入時間過長，他可能會患上“氧氣中毒”。肺的毛細(xì)血管屏障被破壞，導(dǎo)致肺水腫、肺充血和出血，嚴(yán)重?fù)p害呼吸功能，繼而造成器官缺氧損傷。在0.1MPa（1-大氣）的純氧環(huán)境中，特殊氣體網(wǎng)絡(luò)中的人只能存活24小時，并發(fā)生肺炎，最終導(dǎo)致呼吸衰竭和窒息。人類可以在0.2 MPa（2個大氣壓）的高壓純氧環(huán)境中停留數(shù)小時至最多兩小時，更多 +
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惰性稀有氣體在霓虹燈管內(nèi)的作用
霓虹燈可分為兩類：填充惰性氣體的燈和填充氬汞氣體并在管內(nèi)壁涂有熒光粉的燈。放電過程中前者輻射原子的特征光譜；后者通過在放電過程中激發(fā)汞原子產(chǎn)生253.7 nm紫外光子輻射，這些紫外光子刺激熒光粉形成量子轉(zhuǎn)換并發(fā)光。 僅使用填充惰性氣體的燈型，惰性氣體的主要功能如下： 1.參與原子的受激發(fā)射，例如充滿氖的霓虹燈發(fā)射紅色光譜； 2.有效維持放電過程，防止電子自由程過大，使自由電子在激發(fā)和電離過程發(fā)生之前自然消失； 3.控制電子遷移率，即控制放電管的電導(dǎo)率，以確定氖管中的電場強(qiáng)度，并使氖管的電壓降；更多 +
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氙氣Xe-氪氣-Kr-鹵素氣體--電光源照明混合氣
電光源分類 光源可分為自然光源和人工光源。就人造光源而言，以電的形式發(fā)光的光源統(tǒng)稱為電光源。根據(jù)電能轉(zhuǎn)化為光能的不同形式，電光源可分為以下幾類：氣體放電光源、熱輻射光源、固體光源和激光光源。前三種光源屬于非相干光源，激光光源屬于一種新型相干光源。光源研究是一門特殊的技術(shù)學(xué)科，包括光學(xué)、原子物理、電真空和色度學(xué)等多個學(xué)科。本工作主要針對氣體放電光源和電光源用混合氣體，其他類型的電光源僅作簡要介紹。 1.1氣體放電光源 氣體放電光源是放置在氣體中的兩個電極之間以發(fā)光的光源。氣體放電光源因其高輸出光而得更多 +
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氦氣He冷機(jī)“當(dāng)代冰蓄低溫工程最佳冷源方式”
空調(diào)已經(jīng)被人們廣泛使用和深入使用。隨著社會的發(fā)展和科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，人們對能源消費(fèi)提出了更高的要求。如何選擇冰蓄冷空調(diào)和使用冰箱已成為當(dāng)前科學(xué)研究的重要課題。使用綠色制冷劑，如氦氣、冰箱、溴機(jī)和無氯電動制冷螺桿機(jī)，已從倡導(dǎo)迅速演變?yōu)榫o迫性和必然性。 “氦氣機(jī)”蓄冰低溫區(qū)域冷卻和低溫送風(fēng)空調(diào)的優(yōu)點(diǎn)： 1.“氦氣發(fā)動機(jī)”使用氦氣作為制冷劑，這是一個不錯的選擇，因?yàn)楹馐且环N純天然無污染的綠色制冷劑，不會造成空氣污染或溫室效應(yīng)。 2.氦機(jī)冷卻廣泛應(yīng)用于深冷領(lǐng)更多 +
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三氯氫硅還原法制取高純硅的化學(xué)原理
SiHCl3的合成 第一步：由硅石制取粗硅 硅石（SiO2）和適量的焦炭混合，并在電爐內(nèi)加熱至1600~1800℃ 可制得純度為95%~99%的粗硅。其反應(yīng)式如下： SiO2+3C=SiC+2CO（g）↑ 2SiC+SiO2=3Si+2CO（g）↑ 總反應(yīng)式： SiO2+2C=Si+2CO（g）↑ 生成的硅由電爐底部放出，澆鑄成錠。用此法生產(chǎn)的粗硅經(jīng)酸處理后，其純度可達(dá)到99.9%。 第二步：SiHCl3的合成 SiHCl3是由干燥的氯化氫氣體和粗硅粉在合成更多 +
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硅烷熱分解法制取高純硅的化學(xué)原理
在高純硅的制備方法中，熱分解法SiH4具有廣闊的應(yīng)用前景。該方法的整個過程可分為三個部分：SiH4的合成、提純和熱分解。 （1） SiH4的合成 桂花鎂熱分解制備SiH4是工業(yè)上廣泛使用的方法。硅化鎂（Mg2Si）是由硅粉和鎂粉在500～550℃的氫氣（真空或氬氣）中混合而成。反應(yīng)式如下： 2Mg+Si=Mg2Si 然后硅化鎂和固體氯化銨在液氨介質(zhì)中反應(yīng)生成SiH4。 Mg2Si+4NH4Cl=SiH4↑+2MgCl2+4NH3↑ 液氨不僅是介質(zhì)，還更多 +
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液壓氣體組成架構(gòu)
系統(tǒng)組成：動力元件（油泵）、執(zhí)行機(jī)構(gòu)（油缸或液壓馬達(dá)）、控制元件（各種閥門）、輔助元件和工作介質(zhì)。 1.動力元件（油泵）用于將驅(qū)動器的機(jī)械能轉(zhuǎn)換為液壓能；它是液壓傳動的動力部分。 2.執(zhí)行機(jī)構(gòu)（油缸、液壓馬達(dá)）將液體的液壓能轉(zhuǎn)換為機(jī)械能。油缸筆直移動，發(fā)動機(jī)旋轉(zhuǎn)。 3.工作介質(zhì)工作介質(zhì)是指各種液壓傳動中的液壓油或乳化液，通過油泵和液壓馬達(dá)實(shí)現(xiàn)能量轉(zhuǎn)換。 4.控制裝置包括壓力閥、流量閥、換向閥等。其功能是根據(jù)需要不斷調(diào)整液壓伺服電機(jī)的速度，并調(diào)節(jié)和控制液壓系統(tǒng)中工作流體的壓力、流量和流向。更多 +
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氮?dú)獬Ｒ姷闹苽浞椒ù笕?/a>
氮是如何產(chǎn)生的？氮?dú)獾某Ｓ弥苽浞椒ㄓ幸嚎辗逐s、低溫分離、膜分離、變壓吸附、變壓吸收等。由于氮占大氣的4/5，即超過大氣的78%，我們幾乎可以無限使用氮。 液體空氣分餾 氮主要是通過從大氣中分離或分解含氮化合物而產(chǎn)生的。 液化空氣每年產(chǎn)生3300多萬噸氮?dú)?，然后通過分餾產(chǎn)生氮?dú)夂痛髿庵械钠渌麣怏w。 低溫分離 低溫分離過程也稱為低溫蒸餾過程，其中利用空氣中氮和氧的不同沸點(diǎn)來分離氧和氮。由于氮?dú)獾姆悬c(diǎn)（-196℃）低于氧氣的沸點(diǎn)，液氮在液態(tài)空氣蒸發(fā)過程中比液氧更容易變成氣體，而氧氣在空氣液化過程中比更多 +
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氧同位素-氧18的氧氣的用途
氧元素的穩(wěn)定同位素，符號岾O，縮寫為18O。1929年，W.F.Giorgio和H.L.Johnston利用分子光譜學(xué)發(fā)現(xiàn)天然氧由氧16、氧17和氧18同位素組成?，F(xiàn)代測量表明，空氣中氧同位素的確切成分是氧16：氧17：氧18=2667:1:5.5。 1937年，H.C.Yuri和J.R.Hoffman通過水蒸餾獲得富氧水（重氧水）。在現(xiàn)代，分離氧氣18的主要方法仍然是水蒸餾法，通過水蒸餾法可以獲得99.8%的H218O。一氧化碳或一氧化氮的低溫蒸餾也可以從氧氣18中分離出來。 由于發(fā)現(xiàn)了重氧同更多 +
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