很多客戶都在紐瑞德特種氣體購(gòu)買(mǎi)過(guò)甲烷氣體，但是大家聽(tīng)說(shuō)過(guò)三氟甲烷么？從名字上看來(lái)三氟甲烷很像甲烷氣體的“親戚“是不是？其實(shí)三氟甲烷也是烷烴類(lèi)的氣體之一，三氟甲烷，又稱三氟甲，是一種無(wú)色、微味，不導(dǎo)電的氣體，是理想的鹵代烷替代物。三氟甲烷主要用作低溫（-100℃）制冷劑，電子工業(yè)等離子體化學(xué)蝕刻劑及氟有機(jī)化合物的原料。紐瑞德特氣小編月月就為大家介紹一下三氟甲烷在高周波電漿系統(tǒng)中的反應(yīng)機(jī)制以便大家更好的了解三氟甲烷這個(gè)產(chǎn)品。

  本研究系利用高周波電漿系統(tǒng)處理CCl2F2及CHF3，以部份因素配置法及敏感度分析，探討各個(gè)操作參數(shù)（輸入功率、O2/CCl2F2比例、H2/CCl2F2比例或O2/CHF3比例、H2/CHF3比例、操作壓力及CCl2F2或CHF3進(jìn)流濃度）對(duì)CCl2F2或CHF3分解率（ηCCl2F2或η’CHF3）及轉(zhuǎn)化率（輸入總碳轉(zhuǎn)化成CO2比例(FCO2) 或CH4和C2H2(FCH4+C2H2)）之影響，并嚐試推演CCl2F2及CHF3于電漿系統(tǒng)中之可能反應(yīng)機(jī)制。操作參數(shù)之敏感度分析結(jié)果顯示，就ηCCl2F2、η’CHF3或FCO2、FCH4+C2H2而言，輸入功率及CCl2F2或CHF3進(jìn)流濃度系影響分解率及轉(zhuǎn)化率之相對(duì)重要因素。
另一方面，實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示，利用氧電漿分解CCl2F2或CHF3，其主要之含碳產(chǎn)物系CO2，而利用氫電漿分解CCl2F2或CHF3，其主要之含碳產(chǎn)物系CH4和C2H2。利用氧電漿分解CCl2F2，約有30%的Cl2生成，此現(xiàn)象可能系因?yàn)镺C=O的高鍵能和CF4中的C-F高鍵能使得氯與碳原子之間的反應(yīng)機(jī)會(huì)大大降低，進(jìn)而降低了生成其他含氯碳化物的機(jī)會(huì)，進(jìn)而使得分離出之氯互相碰撞之機(jī)會(huì)增加；再者，SiF4的Si-F高鍵能同樣地阻礙了F與其他離子或自由基反應(yīng)形成其他含氟碳化物的機(jī)會(huì)，使得生成之氟碳化物莫耳分率大部份皆小于5%。

  采用氫電漿來(lái)分解CCl2F2或CHF3，因氫之加入而生成大量之HCl或HF（可利用洗滌法或中和法去除之），并抑制了其他氟氯化物或氟化物之形成，且易生成可再利用之CH4和C2H2，雖然氫電漿之去除效率不若氧電漿，但基于上述優(yōu)點(diǎn)，利用氫電漿來(lái)分解CCl2F2或CHF3系提供了另一處理途徑。
此外，在電腦模擬方面，利用建立之包含有37種物種及70個(gè)電漿分解CHF3/H2/Ar氣體基元反應(yīng)式，進(jìn)行模擬實(shí)驗(yàn)中各種不同操作情況下之CHF3分解與產(chǎn)物生成率，再與實(shí)驗(yàn)值比較后，藉敏感度分析得知電漿中CHF3易和第三分子作用而分解成CF2和HF，以進(jìn)行后續(xù)一連串之反應(yīng)。研究發(fā)現(xiàn)生成CHxFy自由基系形成CH4之重要前驅(qū)物，而生成CHx自由基系形成C2H2之重要前驅(qū)物。

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