高純度氬氣和普通氬氣的工藝有哪些不同之處呢？

目前，氬氣的來(lái)源只有液態(tài)氬氣。液態(tài)氬氣可以分為兩種：高純度氬氣和普通氬氣。一些

機(jī)器需要使用高純度氬氣，比如光譜儀就必須使用高純度氬氣。
高純度氬和普通氬的主要區(qū)別在于它們的純度水平不同。這種純度級(jí)別是在氣體被分離時(shí)

決定的。如果購(gòu)買(mǎi)低純度的液態(tài)氬，則應(yīng)當(dāng)在蒸發(fā)后立刻注入氣缸。在這段期間內(nèi)一般不

進(jìn)行任何處理，氣體的純度在99.9%到99.99%左右，因此普通的氬中含有相對(duì)較多的雜質(zhì)

氣體，直接影響著焊接的效果。
制造高純度氬氣需要考慮氣源和充裝工藝。一般來(lái)說(shuō)，如果要使用高純度氬氣作為原料，

充填過(guò)程就需要進(jìn)行氣瓶更換和排空等步驟。普通的氬氣也可以用于提升凈化設(shè)備的質(zhì)量

。制備高純氬的工藝相對(duì)簡(jiǎn)單，成本較低。當(dāng)然，在凈化后進(jìn)行灌裝時(shí)，還要注意對(duì)氣瓶

進(jìn)行加工和細(xì)節(jié)的處理。
高純氬氣99.999%表示氬氣的純度達(dá)到99.999%的水平。一般來(lái)說(shuō)，這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)適用于一些

對(duì)氬氣純度要求極高的應(yīng)用領(lǐng)域，比如半導(dǎo)體制造、光學(xué)薄膜沉積、激光切割和焊接等。
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