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氫化物氣體應(yīng)用

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2022-04-06 10:37:00【

 H2Se;實(shí)驗(yàn)用,摻雜氣,制備硒化物,擴(kuò)散、離子注入。


H2S;化學(xué)分析,金屬的精制,各種工業(yè)試劑、農(nóng)藥、醫(yī)藥品、螢光體、電發(fā)光、半導(dǎo)體光電曝光儀,硫及各種硫化物的制備,有機(jī)合成的還原劑、標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、等離子干刻。

AsH3,擴(kuò)散、外延生長(zhǎng),離子注入,化合物半導(dǎo)體用氣體,化學(xué)氣相沉積。

PH3;縮合催化劑,聚合引發(fā)劑,磷的有機(jī)化合物制備,發(fā)生氣體,外延生長(zhǎng)、擴(kuò)散、離子注入,蝕刻,化學(xué)氣相沉積,糧倉(cāng)的殺蟲(chóng)藥。

NH3;氮肥,銨鹽,硝酸,尿素,丙烯腈,藥品染料,金屬表面氮化,制冷劑,半導(dǎo)體用氣體,氧化、氮化膜,化學(xué)氣相沉積,標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣。

GeH4;化學(xué)試劑,制取高純度鍺,化學(xué)氣相沉積,擴(kuò)散、非晶硅,外延、離子注入。

Si2H6;太陽(yáng)能電池,非晶硅膜,外延生長(zhǎng),氧化膜,氮化膜,化學(xué)氣相沉積。

SiH4;硅的外延生長(zhǎng),多晶硅、氧化硅、氮化硅的原料,太陽(yáng)能電池,光導(dǎo)纖維,有色玻璃制造,化學(xué)氣相沉積。

B2H6;半導(dǎo)體制造中的擴(kuò)散和氧化、外延生長(zhǎng),化學(xué)氣相沉積。

H2;氣體燃料,石油精煉,制造油脂、硬化油等人造奶油,甲醇、氨等合成,焊接和金屬的切割,氣象觀測(cè),玻璃的融化,冶金工業(yè),冷卻劑(液氫),半導(dǎo)體制造用平衡氣,蝕刻氣,標(biāo)準(zhǔn)氣,零點(diǎn)氣,校正氣,熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等。

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