近年來，《中國制造2025》、《“十三五”國家戰(zhàn)略性新興產業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關于集成電路生產企業(yè)有關企業(yè)所得稅政策問題的通知》等政策扶持，我國超大規(guī)模集成電路、LCD器件、非晶硅薄膜太陽能電池等產業(yè)發(fā)展迅速。與此同時，隨著這些行業(yè)的快速發(fā)展，含氟特殊電子氣體也有了很大的增長。

常見的含氟特殊電子氣體有六氟化硫（sf6）、六氟化鎢（WF6）、四氟化物（CF4）、三氟甲烷（CHF3）、三氟化氮（NF3）、六氟乙烷（C2F6）和八氟丙烷（C3F8）。

三氟化氮（NF3）是一種含氟特殊氣體，是市場容量最大的電子特殊氣體產品。它在室溫下具有化學惰性，在高溫下比氧和氟更為活躍和穩(wěn)定，并且易于操作。

三氟化氮主要用作等離子體蝕刻氣體和反應室清潔劑，適用于半導體芯片、平板屏幕、玻璃纖維、光伏電池等制造領域。

與其他含氟電子氣體相比，三氟化氮具有反應速度快、效率高等優(yōu)點。特別是在蝕刻氮化硅等含硅材料時，具有較高的蝕刻速度和選擇性。它不會在蝕刻對象的表面留下任何殘留物。它也是一種很好的清潔劑，不會污染表面，可以滿足加工工藝的要求。

氟化氮的主要生產工藝包括化學工藝和熔鹽電解工藝。其中，化學合成法是安全的，但存在設備復雜、雜質含量高的缺點；電解更容易得到高純度的產品，但也有一些浪費和污染。

目前，生產高純度三氟化氮的日本和國內制造商大多采用NH4H氟化物氣熔鹽電解工藝，而歐美國家一般采用直接法。

隨著半導體和顯示屏行業(yè)的生產和消費重心逐漸轉移到中國大陸，主要原材料均來自國內，兩端的產業(yè)鏈格局決定了三氟化氮的生產和應用將轉移到國內市場。

中國的半導體和平板工業(yè)保持高度繁榮。三氟化氮作為一種特殊的電子氣體，在板材和半導體的制造和加工中不可或缺，具有廣闊的市場空間。

根據(jù)數(shù)據(jù)，2019年世界和中國對三氟化氮的需求將分別增加3.1萬噸。11000噸，同比分別增長10%。40%。從市場競爭格局來看，三氟化氮制造商和銷售商長期集中在美國、韓國、日本等國外天然氣公司。其優(yōu)點是生產能力大，品種齊全，缺點是原料在中國采購，生產成本和運輸成本相對較高。

由于NF3氣體生產的大部分主要原材料均為國內供應，半導體行業(yè)的生產和消費中心轉移至中國大陸，未來NF3生產的趨勢將決定于中國大陸。隨著內部市場需求和國產化率的增加，領先公司的市場份額預計將繼續(xù)提高。