氬氣在特殊領(lǐng)域的重要的應(yīng)用

氬氣在特殊領(lǐng)域中有著重要的應(yīng)用。它的主要用途之一是在光學(xué)領(lǐng)域中作為激光器的工作

介質(zhì)。此外，氬氣還可用于電弧焊、氣體保護(hù)焊、燈光效果和照明、溫控和降溫、醫(yī)療手

術(shù)、電氣設(shè)備絕緣保護(hù)等。在這些特殊用途中，氬氣發(fā)揮著非常重要的作用。
氬氣是目前廣泛應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域的一種稀有氣體。在自然界中，它具有極高的惰性，既不

燃燒也不助燃。在飛機(jī)制造、船舶、原子能和機(jī)械工業(yè)等領(lǐng)域，氬氣常被用作保護(hù)氣體，

用于對(duì)鋁、鎂、銅及其合金以及不銹鋼等特殊金屬進(jìn)行焊接，以防止焊接部件被空氣氧化

或硝化。
高純度的氬氣主要用于焊接、不銹鋼生產(chǎn)和冶煉。它還廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的化

學(xué)氣相沉積、晶體生長(zhǎng)、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅生產(chǎn)、鎢生產(chǎn)、離子注入和載流等

領(lǐng)域。在生產(chǎn)單晶和多晶硅時(shí)，燒結(jié)氬氣被用作保護(hù)氣體，以提高硅晶體的質(zhì)量。選擇高

純度的氬氣對(duì)制造硅晶體至關(guān)重要，這是一個(gè)問(wèn)題，通過(guò)使用特定的設(shè)備可以解決。
當(dāng)氬氣的氧含量小于1ppm，并且水含量小于1ppm時(shí)，所生產(chǎn)的單晶硅的氧碳含量將不超

過(guò)0.5ppm。這樣操作有助于提高單晶硅的使用壽命，滿足各項(xiàng)要求，并因此獲得客戶的滿

意度和滿足市場(chǎng)需求。由于氬氣是蒸發(fā)而來(lái)且沒(méi)有經(jīng)過(guò)純化處理，其含氧量通常在2ppm至

5ppm之間。有時(shí)，氣體供應(yīng)商提供的氬氣含氧量會(huì)超過(guò)此范圍，而使用氬氣的客戶可能并

不了解氬氣的質(zhì)量，這將經(jīng)常會(huì)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生影響。
只要使用氬氣凈化裝置處理氬氣原料氣體，無(wú)論其質(zhì)量如何，所得到的進(jìn)入晶體爐的氬氣

純度總是不變的。通常情況下，其雜質(zhì)O2＜0.2PPM，濕度＜1PPM，這有利于保證穩(wěn)定的

氬氣產(chǎn)生高質(zhì)量的晶體。