隨著科學技術的發(fā)展，對各種原材料的“純度”要求越來越高。然而，高純度氣體的量通常較小且昂貴。因此，如何正確、恰當地制定原料氣的純度要求以及如何選擇高純度氣體已成為一個有爭議的問題。妥善處理這一問題將對技術和經濟產生深遠影響。

一般來說，人們通常使用百分比濃度來表示氣體的純度，即所謂的“9”表達式。例如，99.9%的特定氣體濃度表示其含有0.1%的雜質（即雜質含量為1000 ppm）。根據一般概念，很明顯，濃度為99.995%的氣體比99.99%的氣體更純凈，人們似乎更喜歡它。然而，如果純度的選擇僅限于此，這將對科學研究或生產產生負面影響。如果只考慮這些因素，顯然忽略了兩個主要因素，即高純度氣體的價格和所含雜質的危害性。

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我們都知道，價格上漲的速度快于指數增長，氣體純度越高，價格越高，并且隨著“9”的增加。

很難獲得七種“9”或更多的超高純度氣體。除了在實驗室提供零件外，在一般工業(yè)生產中很難提供大量零件。因此，數字為“9”的純氣體在一般生產中是完全不可接受的，除非它可以在科學研究中有條件地被接受。

因此，我們應從氣體中雜質的濃度和雜質對工藝的危害性的角度選擇使用高純度氣體。這是因為很難將氣體中的雜質總量降至lppm以下，但重要的是將單個有害雜質降至L×10-9或更低。根據當前工藝水平，硅中的總雜質含量不低于10-8（1ppm）。然而，對磷和硼等有害電活性雜質的單獨控制已達到1×10-8～l×10-10。（即o.1Öo.o1ppb）

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因此，國外并不是簡單地用幾個“9”來表示高純度氣體，而是直接用不同的目的來命名高純度氣體的程度。如光譜純值、原子平面、電子平面、半導體平面、太陽能電池平面、外延平面、VLSI平面（VLSI平面）、研究平面等。它們僅表示材料水平適合于特定現場站的使用，并不意味著雜質量必須小于某個值。正如化學試劑一般分為G.R.，A.R.，和C.P.，這僅意味著它們的純度“優(yōu)異”，“可用于分析”和“只能用于一般化學試劑”。這并不一定意味著材料或試劑的總雜質含量已降低到某個數量級。同一水平的不同材料或試劑中包含的雜質量有時可能會變化幾個數量級。根據材料的用途選擇材料的純度，使我們能夠選擇目標明確的材料，克服盲目性。

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