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氦氣的有哪些用途
用于超低溫研究、氣相分析、焊接、探漏、化學(xué)氣相淀積、晶體生長(zhǎng)、等離子干刻、特種混合氣等，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、平衡氣、醫(yī)療氣、氣球電子管潛水服等的充氣。 氦氣廣泛應(yīng)用于軍工、科研、石化、制冷、醫(yī)療、半導(dǎo)體、管道檢漏、超導(dǎo)實(shí)驗(yàn)、金屬制造、深海潛水、高精度焊接、光電子產(chǎn)品生產(chǎn)等。 (1)低溫冷卻：利用液氦的-268.9℃的低沸點(diǎn)，液氦可以用于超低溫冷卻。而超低溫冷卻技術(shù)在超導(dǎo)技術(shù)等領(lǐng)域有較廣泛的應(yīng)用，超導(dǎo)材料需要在低溫（100K左右）中才能表現(xiàn)出超導(dǎo)特性，大多數(shù)情況下只有液氦能比較簡(jiǎn)便地實(shí)現(xiàn)這樣的極低溫。超導(dǎo)技術(shù)在交更多 +
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四氟化碳僅僅只是一種超低溫冷媒嗎？
CF4，中文名稱四氟化碳、四氟甲烷，英文名稱Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane，分子式CF4。也被稱為R-14制冷劑，別名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名稱有Freon 14等。 四氟化碳?xì)怏w理化特性 在常溫下，四氟甲烷是無色、無臭、不燃，不溶于水的可壓縮性氣體。沸點(diǎn)：-128℃，熔點(diǎn)：-183.6℃。液體密度（-130℃）1.613g/cm3，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力3.74Mpa，蒸氣壓（-150.7更多 +
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四氟化碳的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。 &nb更多 +
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氟化物氣體應(yīng)用
COF2；有機(jī)合成中間體，氟化劑。 CHF3；蝕刻，冷凍劑，有機(jī)合成。 CH2F2；致冷劑。 CH3F；噴霧劑，C-F鍵的研究。 WF6；氟化劑，鎢載體，化學(xué)氣相沉積。 SF6；電子設(shè)備，雷達(dá)波導(dǎo)，粒子加速器，變壓器，避雷器的氣 絕緣體，制冷劑，示蹤裝置，醫(yī)療，半導(dǎo)體制造中的蝕刻、化學(xué)氣相沉積，標(biāo)準(zhǔn)氣，檢漏氣體，色譜儀的載氣。 NF3；火箭推進(jìn)劑，氟化劑，電子氣，等離子干刻，摻雜，激光，光導(dǎo)纖維 。 S更多 +
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氧化物氣體應(yīng)用
COS；用 于碳氧化物，硫代酸，硫代碳酸鹽和噻唑的合成，校準(zhǔn)氣。 SO2；制備H2SO4、Na2S等無機(jī)硫化物，有機(jī)物合成，熏蒸劑，殺蟲劑，水果蒸菜的保鮮劑，消毒用殺菌劑，漂白劑，造紙工業(yè)，制冷劑，石油精練，鎂的冶煉，防腐劑，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣。 N2O；牙科、外科、婦產(chǎn)科用麻醉劑，探漏，制冷劑，助燃劑，防腐劑，化工原料，原子吸收光譜用氣，半導(dǎo)體制造用平衡氣，氧化、化學(xué)氣相沉積，標(biāo)準(zhǔn)氣，醫(yī)療氣，煙霧噴射劑，真空和帶壓檢漏。 NO；硅的氧化膜形成，氧化、更多 +
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單組分氣體應(yīng)用
N2；化肥、氨、硝酸等化合物的制造，惰性保護(hù)介質(zhì)，速凍食品，低溫粉碎等的制冷劑、冷卻劑，電子工業(yè)中的外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相沉積，離子注入，等離子干刻、光刻等，還用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣、平衡氣。 充入燈泡能防止鎢絲的氧化和減慢鎢絲的揮發(fā)速度，延長(zhǎng)燈泡的使用壽命，代替惰性氣體作焊接時(shí)的保護(hù)氣。 真空充氮儲(chǔ)糧和水果，博物館里書籍的保存。 液氮給手術(shù)刀降溫，“冷刀”手術(shù)減少出血或不出血，術(shù)后恢復(fù)快。 低溫存儲(chǔ)等。 Xe；用于閃光燈，深度麻醉劑，激光器，焊接，難熔金屬切更多 +
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氨氣氣體特性及氨氣檢測(cè)儀在使用過程中的注意
氨氣的特性：氨氣為無色氣體,有毒，危險(xiǎn)等級(jí)為2.2。有刺激性味。常見的制冷劑。分子式NH3。分子量17.03。相對(duì)密度0.7714g/l。熔點(diǎn)-77.7℃。沸點(diǎn)-33.35℃。自燃點(diǎn)651.11℃。蒸氣密度0.6。蒸氣壓1013.08kPa(25.7℃)。蒸氣與空氣混合物爆炸極限16～25%(最易引燃濃度17%)。 按國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《工作場(chǎng)所有害因素職業(yè)接觸限值GBZ2-2002》規(guī)定，車間中氨氣最高允許濃度為30mg/M3,約為39.5ppm。在實(shí)際檢測(cè)當(dāng)中更多 +
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氦氣的應(yīng)用領(lǐng)域
氦氣廣泛應(yīng)用于軍工、科研、石化、制冷、醫(yī)療、半導(dǎo)體、管道檢漏、超導(dǎo)實(shí)驗(yàn)、金屬制造、深海潛水、高精度焊接、光電子產(chǎn)品生產(chǎn)等。 1、低溫冷源：利用液氦的-268.9℃的低沸點(diǎn)，液氦可以用于超低溫冷卻。而超低溫冷卻技術(shù)在超導(dǎo)技術(shù)等領(lǐng)域有較廣泛的應(yīng)用，超導(dǎo)材料需要在低溫（100K左右）中才能表現(xiàn)出超導(dǎo)特性，大多數(shù)情況下只有液氦能比較簡(jiǎn)便地實(shí)現(xiàn)這樣的極低溫。超導(dǎo)技術(shù)在交通行業(yè)的磁懸浮列車，醫(yī)療領(lǐng)域的核磁共振成像設(shè)備都有較大的應(yīng)用。 2、氣球充氣：由于氦氣密度遠(yuǎn)小于空氣（空氣的密度為1.29kg/m3，氦氣的密更多 +
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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈之電子特種氣體行業(yè)深度研究：四氟甲烷
四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻 璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、 控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極 強(qiáng)，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超 凈和多品種、多規(guī)模，各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)的發(fā)展，越來越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前 而言，CF4更多 +
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氖氣的3大用途
氖氣因?yàn)樯a(chǎn)量少，成本相對(duì)比較高，通常只在一些專用儀表、電光源、低溫研究以及配制深海潛水呼吸氣等領(lǐng)域應(yīng)用。 一、氖氣用途之氖的低溫工程應(yīng)用 眾所周知，氦的液體溫度范圍為2×10-3—5.20K，氫的液體溫度范圍為14.2—33.0K，氖的液體溫度范圍為24.5—44.40K。 由于氖具有化學(xué)惰性，且蒸發(fā)潛熱大（按同體積液體計(jì)，液氖制冷能為液氫的2.7倍），因此，在25-40K內(nèi)，經(jīng)常用氖代替氫作為實(shí)驗(yàn)的安全冷卻劑。在液氖上部抽出蒸氣，很容更多 +
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