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四氟化碳僅僅只是一種超低溫冷媒嗎?

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2022-04-07 09:47:00【

   CF4,中文名稱四氟化碳、四氟甲烷,英文名稱Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane,分子式CF4。也被稱為R-14制冷劑,別名R14、氟利昂14PFC-14,商品名稱有Freon 14等。

 

四氟化碳?xì)怏w理化特性

在常溫下,四氟甲烷是無色、無臭、不燃,不溶于水的可壓縮性氣體。沸點(diǎn):-128℃,熔點(diǎn):-183.6℃。液體密度(-130℃1.613g/cm3,臨界溫度-45.67℃,臨界壓力3.74Mpa,蒸氣壓(-150.7℃13.33kPa,介電常數(shù)(25℃,0.5Mpa1.0006。揮發(fā)性較高,是最穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一,在900攝氏度時(shí),不與鋼、鎳、鎢、鉬反應(yīng),僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25攝氏度及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比)

四氟甲烷空氣中不燃燒,是比較穩(wěn)定的無毒物質(zhì)。但是在高溫時(shí),或與可燃?xì)怏w一同燃燒時(shí),分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能與二氧化碳形成羰基氟。

 

四氟化碳?xì)怏w使用范圍

CF4作為一款特種超低溫制冷劑,主要應(yīng)用于要求溫度非常低的深冷設(shè)備中(包括科研制冷、醫(yī)用制冷等),同時(shí)也是超低溫配合冷媒的重要組分。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產(chǎn),激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài),印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業(yè);如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。 

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