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半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展迅猛,電子氣體迎來新機(jī)遇!
紐瑞德小編了解到,在9月13日召開的2018年中國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展研討會上,中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會副理事長于燮康介紹,上半年,中國集成電路產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)收入2726.5億元,同比增長23.9%。其中,集成電路制造領(lǐng)域收入737.4億元,同比增長29.1%。 中科院微電子研究所所長表示,集成電路制造既可以帶動國產(chǎn)裝備和材料發(fā)展,又可以服務(wù)于集成電路設(shè)計(jì)企業(yè),是集成電路產(chǎn)業(yè)的中樞環(huán)節(jié)。國內(nèi)集成電路制造工藝已取得長足進(jìn)步,65納米、40納米、28納米工藝相繼量產(chǎn),14納米技術(shù)研發(fā)取得突破,特色工藝競爭力提高。&l更多 +
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液氫、液氧、液氮火箭發(fā)射的“加油站”
西昌的衛(wèi)星發(fā)射場技術(shù)勤務(wù)站氮氧站,一個(gè)常年給航天發(fā)射供給燃料的地方。西昌和航天難解難分,這里地理位置最優(yōu),從1984年“首發(fā)”至今,已經(jīng)進(jìn)行111次航天發(fā)射,成功將120多顆航天器送上天。作為我國唯一能夠發(fā)射中高軌道航天器的發(fā)射中心,這里最早使用低溫燃料液氫液氧。而西昌衛(wèi)星發(fā)射中心所有低溫燃料的生產(chǎn)、化驗(yàn)、運(yùn)輸、加注、轉(zhuǎn)注,都由這個(gè)氮氧站負(fù)責(zé)。 在這里,液氫、液氧和液氮?dú)怏w有什么作用呢? 大家都知道,氮是惰性氣體,不支持燃燒。液氮的主要作用是預(yù)冷管路、置換更多 +
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國內(nèi)將建成首座商用液氫儲運(yùn)型加氫站
中國第一座商業(yè)運(yùn)營的液氫儲運(yùn)型加氫站,加速國內(nèi)氫能基礎(chǔ)設(shè)施的發(fā)展。重點(diǎn)將圍繞加氫站基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)、核心設(shè)備、運(yùn)行維護(hù)、氫源供給和液氫儲運(yùn)等方面開展,推進(jìn)液氫型加氫站在中國示范運(yùn)行到商業(yè)化應(yīng)用。 該加氫站全面按照美國汽車工程師協(xié)議J2601商用加氫站技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),由液氫儲罐、高效液氫增壓泵、高壓液氫氣化器及氫氣儲罐、加氫機(jī)和控制系統(tǒng)等關(guān)鍵模塊組成,設(shè)計(jì)加氫能力500kg/天,并可依需求擴(kuò)展至1500kg/天,具備35MPa和70Mpa同時(shí)加氫的能力。 液氫儲運(yùn)型加氫站采用先進(jìn)的液態(tài)儲運(yùn)和更多 +
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四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用
四氟化碳,又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳,也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中,需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中,用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉,附有油墨的電路上銅皮得以保留,之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干,等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體,也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產(chǎn),鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控更多 +
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液氮在電子工業(yè)中的應(yīng)用
液氮是低溫-196℃的液體,是由占用空氣成分百分之七十多的氮?dú)獾脕淼?。惰性、無色、無毒,易揮發(fā),使用范圍非常廣。液氮低溫易揮發(fā),所以一般儲存在專用容器—液氮罐中。 1、電子元件制造與檢測 液氮是一種更快和更有效的屏蔽和測試電子元器、電路板的方法。 2、低溫球磨技術(shù) 低溫行星式球磨機(jī)是將液氮?dú)怏w源源不斷地輸入裝有保溫罩的行星式球磨機(jī)中,這些冷氣將高速旋轉(zhuǎn)的球磨罐產(chǎn)生的熱量及時(shí)更多 +
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電子工業(yè)中如何正確選用高純氣體
隨著科學(xué)技術(shù)向高、精、尖發(fā)展,對各種原材料“純度”的要求開始越來越高。但是,高純氣體所能提供的數(shù)量通??偸禽^少的,同時(shí),價(jià)格昂貴。因此,如何正確地恰如其分地提出對原料氣的純度要求,如何選用高純氣就成為一個(gè)值得討論的問題。 通常,人們常用百分濃度來轟示氣體的純度,即所謂用幾個(gè)“9”字的表示法。例如,某種氣體濃度為99.9%,表示含有0.1% 的雜質(zhì)(即雜質(zhì)含量為1000ppm)。按通常的概念,顯然,濃度為99.995%的氣體比99.99更多 +
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蝕刻技術(shù)中特種氣體的作用
硅片的蝕刻氣體(特種氣體)主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進(jìn)后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)氣體。反應(yīng)后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。鋁和金屬復(fù)合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等 蝕刻是采用化學(xué)和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程??涛g的目的是在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形。刻蝕分為濕法蝕更多 +
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氦氣等惰性氣體在球形燃料反應(yīng)堆(PBR)的應(yīng)用
繼去年剛剛啟動的兩個(gè)球形燃料技術(shù)新項(xiàng)目之后,中國核能技術(shù)進(jìn)一步發(fā)展的浪潮即將出現(xiàn)。 在兩個(gè)漸進(jìn)項(xiàng)目中,一個(gè)是原形調(diào)制劑設(shè)施 HTR-PM,計(jì)劃用于演示 HTR-10 球形燃料技術(shù)的商業(yè)潛力。另一個(gè)是氦氣燃?xì)鉁u輪發(fā)電機(jī)系統(tǒng),該系統(tǒng)結(jié)合了原始的 HTR-10 反應(yīng)堆。 中國也計(jì)劃在東部地區(qū)榮城建立一個(gè) 1.9 億瓦的反應(yīng)堆試驗(yàn)發(fā)電廠。如果試驗(yàn)成功,該基地將一共建造 19 個(gè)球形燃料反應(yīng)堆,發(fā)電量達(dá)到 36 億瓦。更多 +
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高頻氬氣刀好在哪里?
高頻氬氣刀,可以說這是近幾年臨床應(yīng)用的一種新技術(shù),它具有很多優(yōu)點(diǎn),比如說能夠有效、安全地減少由接觸而產(chǎn)生的感染,且對金屬支架不會起到破壞作用等。那么氬高頻氬氣刀與普通的電刀又有哪些區(qū)別呢? 1.首先高頻氬氣刀凝血快、止血效果可靠,術(shù)中失血少,手術(shù)時(shí)間縮短。不僅是對一般難以止血的部位,特別是對于大面積滲血有良好效果。對小血管輔以壓迫止血,同樣可以快速止血。手術(shù)中失血量一般減少50%左右,使病人少輸血或不輸血,手術(shù)時(shí)間也可以縮短約一半。 2.其次高頻氬更多 +
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我國已實(shí)現(xiàn)甲烷溫室一步轉(zhuǎn)為液態(tài)
昨日紐小編從上??萍即髮W(xué)獲悉,該校物質(zhì)科學(xué)與技術(shù)學(xué)院左智偉科研團(tuán)隊(duì)成功開發(fā)出一種廉價(jià)、高效的鈰基催化劑和醇催化劑的協(xié)同催化體系,解決了利用光能在室溫下把甲烷一步轉(zhuǎn)化為液態(tài)產(chǎn)品的科學(xué)難題,為甲烷轉(zhuǎn)化成高附加值的化工產(chǎn)品提供了嶄新的解決方案。 中國科學(xué)院院士、上海科技大學(xué)副校長丁奎嶺這樣評價(jià)這項(xiàng)研究成果:“由于甲烷分子碳?xì)滏I的高度穩(wěn)定性和弱極性,它的轉(zhuǎn)化極具挑戰(zhàn)性,通常需要高溫高壓等苛刻的反應(yīng)條件,因此如何在溫和條件下實(shí)現(xiàn)甲烷分子碳?xì)滏I的官能團(tuán)化,被認(rèn)為是化學(xué)中的&lsqu更多 +
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