噴射式大氣電漿(atmospheric pressure plasma jet, APPJ)近年極受重視,發(fā)展迅速,其可操作于一大氣壓環(huán)境,因此降低對高價真空設備之需求,更重要的是噴射式大氣電漿利用射頻產生非平衡電漿,其中電子溫度與密度極高,其值或數(shù)量級約為2eV與1017m-3左右,但氣體溫度可保持在室溫附近(約300 K),因此適合應用于生醫(yī)、紡織與軟性電子基板等之表面處理式鍍膜。另一方面,噴射式大氣電漿之結構為線性開槽式,所產生之電漿適合應用于傳輸式處理設備,并易于放大尺寸,具廣泛工業(yè)應用潛力。今天紐瑞德特氣小編月月就為大家介紹一下氦氣電漿的各項參數(shù)。
本次主要以氦氣進行數(shù)值模擬計算(採用CFDRC模擬計算軟體),配合所考慮的反應式,給予適當?shù)碾妷号c氣體流速,探討各項電漿參數(shù)的分布情形。大部分的電漿參數(shù)如電子密度、離子密度、或激發(fā)態(tài)原子密度等,在射頻電壓可接受范圍之內,均是隨著時間成長到一定數(shù)量而逐漸達穩(wěn)定,而在本次所使用的1.8mm通道寬度、射頻電壓350V與氣體流速10m/s的條件下,激發(fā)態(tài)原子密度較電離子密度高約三個數(shù)量級。另外并改變射頻電壓與氣體流速等操作條件,比較各項電漿參數(shù)的變化,若要提昇通道內的電漿密度,則可藉由提高射頻電壓與降低氣體流速來達成。最后將降激發(fā)反應系列所使用之反應速率常數(shù)或碰撞截面資料做比較,發(fā)現(xiàn)不論採取何種條件進行計算,均不影響其模擬結果。
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