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: 六氟化硫行業(yè)產(chǎn)能及應(yīng)用領(lǐng)域，半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化帶動(dòng)電子級(jí)SF6需求

六氟化硫（化學(xué)式為SF6）常態(tài)下是一種無(wú)色、無(wú)味、無(wú)毒、無(wú)嗅的非燃燒性氣體。作為一種電子氣體，六氟化硫具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性、耐腐蝕性、電絕緣性以及耐熱性，在半導(dǎo)體、電力設(shè)備、航空航天、半導(dǎo)體制造、金屬加工、醫(yī)療等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域不同，六氟化硫可分為工業(yè)級(jí)六氟化硫以及電子級(jí)六氟化硫，近年來(lái)，隨著大規(guī)模集成電路技術(shù)提升，市場(chǎng)對(duì)電子氣體純度、質(zhì)量等要求越來(lái)越高，在此背景下，六氟化硫產(chǎn)業(yè)逐漸由工業(yè)級(jí)向電子級(jí)方向升級(jí)。電子級(jí)六氟化硫可作為氟源、蝕刻氣體等應(yīng)用在半導(dǎo)體、面板顯示器件
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: 氟化物氣體應(yīng)用

COF2；有機(jī)合成中間體，氟化劑。 CHF3；蝕刻，冷凍劑，有機(jī)合成。 CH2F2；致冷劑。 CH3F；噴霧劑，C-F鍵的研究。 WF6；氟化劑，鎢載體，化學(xué)氣相沉積。 SF6；電子設(shè)備，雷達(dá)波導(dǎo)，粒子加速器，變壓器，避雷器的氣絕緣體，制冷劑，示蹤裝置，醫(yī)療，半導(dǎo)體制造中的蝕刻、化學(xué)氣相沉積，標(biāo)準(zhǔn)氣，檢漏氣體，色譜儀的載氣。 NF3；火箭推進(jìn)劑，氟化劑，電子氣，等離子干刻，摻雜，激光，光導(dǎo)纖維。 S
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: 氧化物氣體應(yīng)用

COS；用于碳氧化物，硫代酸，硫代碳酸鹽和噻唑的合成，校準(zhǔn)氣。 SO2；制備H2SO4、Na2S等無(wú)機(jī)硫化物，有機(jī)物合成，熏蒸劑，殺蟲(chóng)劑，水果蒸菜的保鮮劑，消毒用殺菌劑，漂白劑，造紙工業(yè)，制冷劑，石油精練，鎂的冶煉，防腐劑，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣。 N2O；牙科、外科、婦產(chǎn)科用麻醉劑，探漏，制冷劑，助燃劑，防腐劑，化工原料，原子吸收光譜用氣，半導(dǎo)體制造用平衡氣，氧化、化學(xué)氣相沉積，標(biāo)準(zhǔn)氣，醫(yī)療氣，煙霧噴射劑，真空和帶壓檢漏。 NO；硅的氧化膜形成，氧化、
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: 俄烏戰(zhàn)爭(zhēng)后遺癥，半導(dǎo)體稀有氣體價(jià)格飆升

俄烏戰(zhàn)爭(zhēng)對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的影響可能甚至比行業(yè)本身之前所認(rèn)為的還要大。據(jù)英國(guó)《金融時(shí)報(bào)》報(bào)道，對(duì)半導(dǎo)體制造過(guò)程至關(guān)重要的稀有氣體——例如氖氣、氙氣和氪氣——的價(jià)格正在飆升，可用庫(kù)存和供應(yīng)已經(jīng)證明不足以滿(mǎn)足當(dāng)前的需求水平。至關(guān)重要的是，據(jù)報(bào)道，全球約75% 的氖氣供應(yīng)被半導(dǎo)體制造所消耗。烏克蘭的全部產(chǎn)量不足以滿(mǎn)足該行業(yè)的需求，但它確實(shí)提供了很大一部分氖氣供應(yīng)。烏克蘭的氖氣產(chǎn)量也占美國(guó)進(jìn)口惰性氣體的90%。上周，隨著沖突的爆發(fā)，我們最初報(bào)道了俄烏戰(zhàn)爭(zhēng)的潛在影響。
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: 科技創(chuàng)新助力電子氣體產(chǎn)業(yè)發(fā)展

近年來(lái)，5G，人工智能（AI）和物聯(lián)網(wǎng)等技術(shù)帶動(dòng)了泛半導(dǎo)體的高速發(fā)展。電子材料是半導(dǎo)體的支撐產(chǎn)業(yè)，電子氣體是半導(dǎo)體制造中僅次于晶圓的第二大類(lèi)重要材料，品類(lèi)多達(dá)百余種。日前，2021中國(guó)先進(jìn)電子材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展大會(huì)上發(fā)表了《科技創(chuàng)新助力電子氣體產(chǎn)業(yè)發(fā)展》通過(guò)對(duì)國(guó)內(nèi)電子氣體材料“卡脖子”現(xiàn)狀深入分析，指明了電子氣體技術(shù)的未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)。電子氣體核心技術(shù)通常有四個(gè)大類(lèi)，即合成技術(shù)、純化技術(shù)、潔凈灌裝技術(shù)和檢測(cè)技術(shù)。計(jì)總通過(guò)科利德公司電子級(jí)一氧化氮（NO）的生產(chǎn)案例向大家介紹了合成
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: 電子特種氣體供需問(wèn)題亟待通過(guò)回收再利用技術(shù)解決

面對(duì)半導(dǎo)體制造過(guò)程中特種氣體使用量持續(xù)增大帶來(lái)的溫室氣體排放問(wèn)題和地緣政治問(wèn)題引起的特殊氣體供求問(wèn)題，韓國(guó)專(zhuān)家專(zhuān)家提出了發(fā)展特種氣體再利用技術(shù)的解決方案。近年來(lái)，隨著半導(dǎo)體及顯示器產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展，特種氣體的使用量和排放量急劇增加，因此抑制該領(lǐng)域溫室氣體排放已經(jīng)成為當(dāng)務(wù)之急。在半導(dǎo)體材料·特種氣體研討會(huì)上，韓國(guó)代表就“半導(dǎo)體氣體Recycling技術(shù)和局限性”進(jìn)行了專(zhuān)題研討。他認(rèn)為，由于各國(guó)之間的貿(mào)易爭(zhēng)端，氦、氖、氪、氙等稀有氣體的回收和再利用刻不容緩。目前半導(dǎo)體
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: 存儲(chǔ)芯片需求增長(zhǎng)，2025年電子級(jí)稀有氣體用量或增加至850ML

在信息時(shí)代的飛速發(fā)展中，海量數(shù)據(jù)的處理不僅對(duì)于芯片算力提出越來(lái)越高的要求，不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時(shí)更低的存儲(chǔ)介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲(chǔ)器高深寬比刻蝕工藝，從而實(shí)現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。預(yù)計(jì)2025年全球電子級(jí)稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML，較2020年增長(zhǎng)29%。激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，光刻定義了晶體管尺寸，光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機(jī)突破關(guān)鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導(dǎo)體
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: USGS：美國(guó)約有3060億立方英尺可回收氦氣，會(huì)影響氦氣價(jià)格么？

美國(guó)地質(zhì)勘探局表示，目前幾乎所有商業(yè)氦氣供應(yīng)都來(lái)自天然氣的生產(chǎn)。當(dāng)天然氣被泵送到地表時(shí)，它會(huì)帶來(lái)其他氣體，如氦氣。然后將氦氣與天然氣分開(kāi)采集和儲(chǔ)存。在可預(yù)見(jiàn)的未來(lái)，醫(yī)療成像、半導(dǎo)體制造、激光焊接、航空航天、國(guó)防和能源項(xiàng)目對(duì)氦氣的高度需求會(huì)持續(xù)存在。美國(guó)地質(zhì)勘探局對(duì)可回收氦資源的首次估計(jì)，美國(guó)的天然氣儲(chǔ)層估計(jì)含有3060億立方英尺的可采氦氣。 2020年美國(guó)氦氣生產(chǎn)量為6100萬(wàn)立方米，約占全球總產(chǎn)量的44%。這份評(píng)估顯示2020年美國(guó)產(chǎn)量水平
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: 切割用四元激光混合氣體最佳方案！

氣體激光器的重要特點(diǎn)之一，激光工作物質(zhì)是混合氣或單一純氣體因此，對(duì)激光混合氣組分的純度有著特殊要求，包裝混合氣的鋼瓶，充裝前也必須進(jìn)行干燥處理，防止污染混合氣。如果將氦（He）氖（Ne）激光作為第一代氣體激光，二氧化碳激光混合氣體是第二代氣體激光，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域?qū)⒋罅渴褂玫姆矗↘rF）激光，可稱(chēng)為第三代激光。今天介紹一種激光切割機(jī)用的激光混合氣體，二維激光切割機(jī)床用的四元激光混合氣體，主要用于鋼材的鈑金加工。激光切割領(lǐng)域較長(zhǎng)使用的二氧化碳激光混合氣體，這
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: 氣體純度對(duì)激光混合氣的重要性

激光混合氣中組分氣的純度直接影響激光的性能，特別是氣體中氧、水、碳?xì)浠衔锏入s質(zhì)的存在將導(dǎo)致激光輸出功率在鏡(面)和電極上的耗損，還會(huì)引起激光發(fā)射的不穩(wěn)定。　　激光混合氣組分的純度有著特殊要求，包裝混合氣的鋼瓶，充裝前也必須進(jìn)行干燥處理，防止污染混合氣。如果將氦(He)氖(Ne)激光作為第一代氣體激光，二氧化碳激光是第二代氣體激光，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域?qū)⒋罅渴褂玫姆?KrF)激光，可稱(chēng)為第三代激光。　　激光混合氣中的發(fā)生氣體是激光發(fā)生器上用來(lái)產(chǎn)生激光的氣體，對(duì)氣體質(zhì)量要求高，激光混合氣配制精度要求高
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